نقش پایه گرافیتی بر تشکیل ساختار گرادیان ترکیبی C/SiC طی فرایند سمانتاسیون توده‌ای
نویسندگان
چکیده مقاله:
گرافیت به طور گسترده در ساختارهای دمای بالا مورد استفاده قرار گرفته‌است با این حال، گرافیت از دمای حدود 400 درجه سانتیگراد، به آسانی با اکسیژن واکنش می‌دهد. کاربید سیلیسیم (SiC) با تغییر تدریجی ترکیب در مقیاس میکروسکوپی به عنوان بهترین ماده برای جلوگیری از اکسیداسیون گرافیت شناخته شده است. در این پروژه پوشش SiC بر پنج نوع گرافیت مختلف به روش سمانتاسیون توده‌ای اعمال گردید و رابطه بین ریزساختار و خواص پایه گرافیتی و ساختار پوشش SiC با یافته‌های آزمایشگاهی و محاسبات تئوری بررسی شد. آنالیز پراش اشعه ایکس (XRD) و میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) نشان می‌دهد که در روش سمانتاسیون توده‌ای، پوشش کاربید سیلیسیم با تراکم مناسب با ترکیب Si، C و β-SiC ایجاد می‌شود. نوع گرافیت و خواص آنها نقش مهمی در ریزساختار پوشش تدریجی ایفا می‌کند، به طوری که پوشش تدریجی SiC تنها بر گرافیت با چگالی بالا، گرافیته شده خوب، تخلخل مناسب و با توزیع اندازه حفرات در محدوده 710-600 نانومتر تشکیل می‌شود.
منابع مشابه
نقش پایه گرافیتی بر تشکیل ساختار گرادیان ترکیبی c/sic طی فرایند سمانتاسیون توده ای
گرافیت به طور گسترده در ساختارهای دمای بالا مورد استفاده قرار گرفته است با این حال، گرافیت از دمای حدود 400 درجه سانتیگراد، به آسانی با اکسیژن واکنش می دهد. کاربید سیلیسیم (sic) با تغییر تدریجی ترکیب در مقیاس میکروسکوپی به عنوان بهترین ماده برای جلوگیری از اکسیداسیون گرافیت شناخته شده است. در این پروژه پوشش sic بر پنج نوع گرافیت مختلف به روش سمانتاسیون توده ای اعمال گردید و رابطه بین ریزساختار ...
متن کاملبررسی حذف اکسایش CO طی فرایند فوتوکاتالیستی با استفاده ازکاتالیست نانو ساختار اسپینلیZnCr2O4 بر روی پایه ZSM-5
آلاینده گازی CO گونه ی از گازهای خطرناک در میان گازهای خروجی از اگزوز وسایل نقلیه خودرو، نیروگاه‌های صنایع زغال‌سنگ و معدن، کوره کارخانه‌های ذوب و غیره می‌باشدکه این گاز باعث آسیب دیدن پوشش گیاهی، موجودات آبزی در اثر واکنش فوتوشیمیایی و همچنین باعث باران‌های اسیدی خطرناک می‌شود. فوتوکاتالیست مورداستفاده در این کار پژوهشی اسپینل ZnCr2O4 بر پایه ZSM-5 است. این فوتوکاتالیست به روش سل-ژل خود اح...
متن کاملبررسی حذف اکسایش co طی فرایند فوتوکاتالیستی با استفاده ازکاتالیست نانو ساختار اسپینلیzncr۲o۴ بر روی پایه zsm-۵
آلاینده گازی co گونه ی از گازهای خطرناک در میان گازهای خروجی از اگزوز وسایل نقلیه خودرو، نیروگاه های صنایع زغال سنگ و معدن، کوره کارخانه های ذوب و غیره می باشدکه این گاز باعث آسیب دیدن پوشش گیاهی، موجودات آبزی در اثر واکنش فوتوشیمیایی و همچنین باعث باران های اسیدی خطرناک می شود. فوتوکاتالیست مورداستفاده در این کار پژوهشی اسپینل zncr2o4 بر پایه zsm-5 است. این فوتوکاتالیست به روش سل-ژل خود اح...
متن کاملبررسی مسیر واکنشی تشکیل پوشش تدریجی SiC بر گرافیت با روش سمانتاسیون بسته‌ای و تأثیر نوع مواد اولیه
با توجه به آن‌که مواد کربنی از جمله گرافیت به طور گسترده در ساختارهای دمای بالا مورد استفاده قرار گرفته‌اند؛ اما مشکل اصلی آنها، شروع اکسیداسیون از دمای حدود °C400 در محیط اکسیدی می‌باشد، بهترین روش برای تقویت مقاومت به اکسیداسیون گرافیت، استفاده از کاربید سیلیسیم با ساختار تدریجی است که به دلیل پایداری حرارتی مناسب و تطابق فیزیکی، شیمیایی و ضریب انبساط حرارتی مناسب با زیرلایه کربنی کاربرد گست...
متن کاملبررسی اثر نانوساختار فولرن بر فرایند تشکیل هیدرات گاز طبیعی
در این مقاله نانوساختار فولرن توسط فرآیند کراشمر- هافمن با مکانیسم قوس الکتریکی در محیط آزمایشگاهی سنتز شد. به منظور استفاده در فرآیند تشکیل هیدرات گازی و بررسی تاثیر آن بر راندمان فرآیند و حجم ذخیره‌سازی، ابتدا نانوسیال با غلظت 1% وزنی تهیه شد. از آنجائی‌که فولرن در آب پایدار نیست، از سورفکتانت SDS استفاده گردید و مشاهده شد نانوسیال مربوطه دارای پایداری خوبی است. در فرآیند تشکیل هیدرات از گاز...
متن کاملمنابع من
با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید
ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده{@ msg_add @}
عنوان ژورنال
دوره 10 شماره 1
صفحات 91- 98
تاریخ انتشار 2016-05-21
با دنبال کردن یک ژورنال هنگامی که شماره جدید این ژورنال منتشر می شود به شما از طریق ایمیل اطلاع داده می شود.
کلمات کلیدی
میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com
copyright © 2015-2023